激光鐳雕機,是用激光束在各種不同的物質表麵打上永久的標記。打標的效應是通過表層物質的蒸發露出深層物質,或者是通過光能導致表層物質的化學物理變化而"刻"出痕跡,或者是通過光能燒掉部分物質,顯出所需刻蝕的圖案、文字。
鐳雕是指激光雕刻,是通過激光束的光能導致表層物質的化學物理變化而刻出痕跡,或者是通過光能燒掉部分物質,顯出所需刻蝕的圖形、文字;按照雕刻方式不同可以分為點陣雕刻和矢量切割。
鐳雕即激光加工原理:
利用激光器發射的高強度聚焦激光束在焦點處 . 使材料氧化因而對其進行加工.
打標的效應是通過表層物質的蒸發露出深層物 質,或者是通過光能導致表層物質的化學物理變化 出痕跡,或者是通過光能燒掉部分物質, 而“刻”出痕跡,或者是通過光能燒掉部分物質, 顯出所需刻蝕的圖形,文字
鐳雕類別
加工類型
“熱加工”具有較高能量密度的激光束(它是集中的能量流)照射在被加工材料表麵上,材料表麵吸收激光能量,在照射區域內產生熱激發過程,從而使材料表麵(或塗層)溫度上升,產生變態、熔融、燒蝕、蒸發等現象。
“冷加工”具有很高負荷能量的(紫外)光子,能夠打斷材料(特別是有機材料)或周圍介質內的化學鍵,至使材料發生非熱過程破壞。這種冷加工在激光標記加工中具有特殊的意義,因為它不是熱燒蝕,而是不產生"熱損傷"副作用的、打斷化學鍵的冷剝離,因而對被加工表麵的裏層和附近區域不產生加熱或熱變形等作用。例如,電子工業中使用準分子激光器在基底材料上沉積化學物質薄膜,在半導體基片上開出狹窄的槽。
激光波長
紫外激光鐳雕機:355nm、266 nm
綠激光鐳雕機:532nm
燈泵YAG激光鐳雕機:1064nm
半導體側泵YAG激光鐳雕機、半導體端泵YAG激光鐳雕機:1064nm
光纖激光鐳雕機:1064nm
CO2激光鐳雕機:10.64um
燈泵浦
YAG激光器是紅外光頻段波長為1.064um的固體激光器,采用氪燈作為能量源(激勵源),ND:YAG(Nd:YAG激光器。Nd(釹)是一種稀土族元素,YAG代表釔鋁石榴石,晶體結構與紅寶石相似)作為產生激光的介質,激勵源發出特定波長的入射光,促使工作物質發生居量反轉,通過能級躍遷釋放出激光,將激光能量放大並整形聚焦後形成可使用的激光束。
半導體
半導體泵浦激光鐳雕機是使用波長為0.808um半導體激光二極管(測麵或端麵)泵浦Nd:YAG介質,使介質產生大量的反轉粒子在Q開關的作用下形成波長1.064um的巨脈衝激光輸出,電光轉換效率高。半導體泵浦激光鐳雕機與燈泵浦YAG就剛打標機相比有較好的穩定性、省電、不用換燈、等優點,價格相對較高。
光纖
主要由激光器、振鏡頭、打標卡三部分組成,采用光纖激光器生產激光的打標機,光束質量好,其輸出中心為1064nm,整機壽命在10萬小時左右,相對於其他類型激光打標器壽命更長,電光轉換效率為28%以上,相對於其他類型激光鐳雕機2%-10%的轉換效率優勢很大,在節能環保等方麵性能卓著。
CO2
CO2激光器是遠紅外光頻段波長為10.64um的氣體激光器,采用CO2氣體充入放電管作為產生激光的介質,當在電極上加高電壓,放電管中產生輝光放電,就可使氣體分子釋放出激光,將激光能量放大後就形成對材料加工的激光束。
紫外
紫外激光鐳雕機配置深紫外激光器、進口高速掃描振鏡係統等;由於紫外激光鐳雕機聚焦光斑極小,且加工熱影響區微乎其微,因而紫外激光鐳雕機可以進行超精細打標、特殊材料打標,紫外激光鐳雕機是對打標效果有更高要求的客戶首選產品。紫外激光鐳雕機具有電光轉換率高,非線性晶體使用壽命長、整機運行穩定、定位精度高、作業效率高、模塊化設計便於安裝維護等特點。另外可選配二維自動工作台,實現多工位連續打標或大幅麵打標。
釔鋁石榴石
激活媒介是固體,激光器發射出接近紅外線區域的1060nm的光波,有連續式、光筆式兩種,通過改變輸出能量,可得到不同強度的激光束。打標工藝有焦化法(深色標記)、發泡法(淺色標記)和燒蝕法(雕刻標記),標記質量極好。
準分子
可發射出紫外範圍的光波(100~400nm),激活媒介由氦、氬、氪、氖氣體和氯、氟、溴、碘等鹵素組成的混合物構成。
綠光
綠光激光鐳雕機采用側麵泵浦,區別於半導體端泵激光鐳雕機,有明顯的優勢:波長為532nm綠激光輸出,聚焦後光斑直徑更小,能量更集中,電光轉換效率高,光束質量好。整機防護好,打標控製方便,采用PLC程序控製,實現一鍵式開機。設備更適用於玻璃製品的表麵雕刻,如手機屏、LCD屏、光學器件(如光學鏡片等)、汽車玻璃等。同時可適用於絕大多數金屬和非金屬材料的表麵加工或鍍層薄膜的加工,如五金、陶瓷、眼鏡鍾表、PC、電子器件、各類儀表、PCB板和控製麵板、銘牌展板、塑料等。與同類產品相比具有相當高的性價比。他的價格更為高昂。
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